产品介绍
H&IRUJA具备新一代显示及半导体制造行业中所必须及优质的溅射技术
产品介绍
H&IRUJA具备新一代显示及半导体制
造行业中所必须及优质的溅射技术
CREJU
CREJU Series为制造OLED显示屏，在大面积基板上将金属物，氧化物在真空状态下以溅射方式蒸镀的设备。
基板通过真空robot进行移动
- TYPEHorizontal Pass with vacuum robot
Vertical-Depo
- 优势可形成 Multi Layer
基板加热功能
Low Particle
One target& target利用率最大化
可Auto T-M的 magnet 优化均匀度
CREJU Series为制造OLED显示屏，在大面积基板上将金属物，氧化物在真空状态下以溅射方式蒸镀的设备。
基板通过真空robot进行移动
- TYPEHorizontal Pass with vacuum robot
Vertical-Depo
- 优势基板冷却功能，低温成膜
可形成 Multi Layer
Low Particle
One target& target利用率最大化
可Auto T-M的 magnet 优化均匀度
CREJU Series为制造OLED显示屏，在大面积基板上将金属物，氧化物在真空状态下以溅射方式蒸镀的设备。
基板通过真空robot进行移动
- TYPEHorizontal Pass with vacuum robot
Vertical-Depo
- 优势可形成 Multi Layer
基板加热功能
Low Particle
target利用率最大化
可Auto T-M的 magnet 优化均匀度
CREJU Series为制造OLED显示屏，在大面积基板上将金属物，氧化物在真空状态下以溅射方式
对移动的基板进行蒸镀的设备
- TYPEHorizontal Pass with vacuum robot
Vertical-Depo
- 优势可形成 Multi Layer
Low Particle
target利用率最大化
可Auto T-M的 magnet 优化均匀度
IVIC
IVIC Series为制造OLED显示屏， 在大面积基板上将金属物，氧化物在真空状态下以溅射方式蒸镀的设备。
基板根据LMS磁悬浮移动carrier
- TYPEVERICAL Pass with CARRIER
Vertical-Depo
- 优势可形成Multi Layer
基板加热功能
Low Particle
最优化的非接触carrier磁悬浮驱动方式
Target 利用率最大化
可Auto T-M的 magnet 优化均匀度
IVIC Series为制造OLED显示屏， 在大面积基板上将金属物，氧化物在真空状态下以溅射方式蒸镀的设备。
基板根据LMS磁力悬浮移动carrier
- TYPEVERICAL Pass with CARRIER
Vertical-Depo
- 优势可形成Multi Layer
基板加热功能
Low Particle
最优化的非接触carrier磁悬浮驱动方式
Target 利用率最大化
可Auto T-M的 magnet 优化均匀度
IVIC Series为制造OLED显示屏， 在大面积基板上将金属物，氧化物在真空状态下以溅射方式蒸镀的设备。
基板根据LMS磁力悬浮移动carrier
- TYPEHorizontal Pass with CARRIER
Horizontal -Depo
- 优势可形成Multi Layer
Low Particle
Target 利用率最大化
可Auto T-M的 magnet 优化均匀度
ART
ART 系列为OLED显示屏制造中 无机绝缘膜在真空状态下
利用 Plasma Enhanced CVD方式进行沉积的设备
- TYPEHorizontal Pass with vacuum robot
Horizontal -Depo
- 优势可形成Multi Layer
基板加热功能
Low Particle
Semi Deposition
CREJU Series 为PLP（Panel Lever Package）工艺， 在基板上将金属物在真空环境下
以溅射的方式进行蒸镀及移送基板的设备
- TYPEHorizontal Pass with vacuum robot
Vertical-Depo
- 优势可形成Multi Layer
Low Particle
优异的contact电阻及adhesion
Target 利用率最大化
可Auto T-M的 magnet 优化均匀度
CREJU Series 为WLP（Wafer Lever Package）工艺， 在wafer上将金属物在真空环境下
以溅射的方式进行蒸镀及移送wafer的设备
- TYPEHorizontal Pass with vacuum robot
Horizontal-Depo
- 优势可形成Multi Layer
Low Particle
优异的contact电阻及adhesion
Target 利用率最大化
可Auto T-M的 magnet 优化均匀度
Industrial Deposition
作为产业中通用SPUTTER， 在wafer上将金属物在真空环境下
以溅射的方式进行蒸镀及移送wafer的设备
- TYPEHorizontal Pass with CARRIER
Horizontal -Depo
- 优势可形成Multi Layer
Low Particle
Target 利用率最大化
可Auto T-M的 magnet 优化均匀度
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感谢您对我们产品的关注，如有咨询事项及进一步了解
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