产品介绍

H&IRUJA具备新一代显示及半导体制造行业中所必须及优质的溅射技术

产品介绍

H&IRUJA具备新一代显示及半导体制
造行业中所必须及优质的溅射技术

CREJU

BPLTOXMC
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CREJU Series为制造OLED显示屏，在大面积基板上将金属物，氧化物在真空状态下以溅射方式蒸镀的设备。
基板通过真空robot进行移动

  • TYPE
    Horizontal Pass with vacuum robot
    Vertical-Depo
  • 优势
    可形成 Multi Layer
    基板加热功能
    Low Particle
    One target& target利用率最大化
    可Auto T-M的 magnet 优化均匀度

CREJU Series为制造OLED显示屏，在大面积基板上将金属物，氧化物在真空状态下以溅射方式蒸镀的设备。
基板通过真空robot进行移动

  • TYPE
    Horizontal Pass with vacuum robot
    Vertical-Depo
  • 优势
    基板冷却功能，低温成膜
    可形成 Multi Layer
    Low Particle
    One target& target利用率最大化
    可Auto T-M的 magnet 优化均匀度

CREJU Series为制造OLED显示屏，在大面积基板上将金属物，氧化物在真空状态下以溅射方式蒸镀的设备。
基板通过真空robot进行移动

C_OX
  • TYPE
    Horizontal Pass with vacuum robot
    Vertical-Depo
  • 优势
    可形成 Multi Layer
    基板加热功能
    Low Particle
    target利用率最大化
    可Auto T-M的 magnet 优化均匀度

CREJU Series为制造OLED显示屏，在大面积基板上将金属物，氧化物在真空状态下以溅射方式
对移动的基板进行蒸镀的设备

  • TYPE
    Horizontal Pass with vacuum robot
    Vertical-Depo
  • 优势
    可形成 Multi Layer
    Low Particle
    target利用率最大化
    可Auto T-M的 magnet 优化均匀度

IVIC

BPOXMC
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IVIC Series为制造OLED显示屏， 在大面积基板上将金属物，氧化物在真空状态下以溅射方式蒸镀的设备。
基板根据LMS磁悬浮移动carrier

  • TYPE
    VERICAL Pass with CARRIER
    Vertical-Depo
  • 优势
    可形成Multi Layer
    基板加热功能
    Low Particle
    最优化的非接触carrier磁悬浮驱动方式
    Target 利用率最大化
    可Auto T-M的 magnet 优化均匀度

IVIC Series为制造OLED显示屏，在大面积基板上将金属物，氧化物在真空状态下以溅射方式蒸镀的设备。
基板根据LMS磁力悬浮移动Carrier

  • TYPE
    VERICAL Pass with CARRIER
    Vertical-Depo
  • 优势
    可形成Multi Layer
    基板加热功能
    Low Particle
    最优化的非接触carrier磁悬浮驱动方式
    Target 利用率最大化
    可Auto T-M的 magnet 优化均匀度

IVIC Series为制造OLED显示屏，在大面积基板上将金属物、氧化物在真空状态下以溅射方式蒸镀的设备。
基板通过LMS驱动Carrier移动。

  • TYPE
    Horizontal  Pass with CARRIER
    Horizontal -Depo
  • 优势
    可形成Multi Layer
    Low Particle
    Target 利用率最大化
    可Auto T-M的 magnet 优化均匀度

ART

ART系列是用于OLED制造的设备，
在真空环境下通过Plasma Enhanced CVD方式沉积无机薄膜。

  • TYPE
    Horizontal Pass with vacuum robot
    Horizontal -Depo
  • 优势
    High/Low Temperature PECVD
    Link/Hybrid Type Vacuum Robot
    Multi Layer
    Heating Chamber
    High Throughput
    Low Particle

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